企业简介
睿励科学仪器（上海）有限公司 main business:研制、生产半导体设备，销售自产产品，提供相关的技术服务。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】 and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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睿励科学仪器（上海）有限公司的工商信息
- 310115400178289
- 91310000774781787F
- 存续（在营、开业、在册）
- 有限责任公司(中外合资)
- 2005年06月27日
- 吕彤欣
- 24750.000000
- 2005年06月27日 至 2020年06月26日
- 自由贸易试验区市场监管局
- 2005年06月27日
- 中国（上海）自由贸易试验区华佗路68号6幢
- 研制、生产半导体设备，销售自产产品，提供相关的技术服务。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
睿励科学仪器（上海）有限公司的域名
| 类型 | 名称 | 网址 |
| 网站 | 睿励科学仪器（上海）有限公司 | rsicsh.com.cn/rsicsh.com |
| 网站 | www.rsicsh.com | www.rsicsh.com |
| 网站 | 睿励科学仪器（上海）有限公司 | http://www.rsicsh.com/ |
睿励科学仪器（上海）有限公司的商标信息
| 序号 | 注册号 | 商标 | 商标名 | 申请时间 | 商品服务列表 | 内容 |
| 1 | 9556118 |  |
睿励 | 2011-06-03 | 计算机；半导体；半导体器件；衍射设备(显微镜)；光学器械和仪器 | 查看详情 |
| 2 | 9578968 |  |
睿励 | 2011-06-10 | 质量控制；质量检测；质量评估；材料测试；工业品外观设计 | 查看详情 |
| 3 | 9578947 |  |
睿励 | 2011-06-10 | 电器设备的安装与修理；办公室用机器和设备的安装、保养和维修；计算机硬件安装、维护和修理；机械安装、保养和修理；修复磨损或部分损坏的机器；清除电子设备的干扰 | 查看详情 |
| 4 | 9556185 |  |
睿励 | 2011-06-03 | 电子工业设备；印刷电路板处理机；静电工业设备；静电消除器；光学冷加工设备 | 查看详情 |
睿励科学仪器（上海）有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN106197949A | 宽波段消色差复合波片的定标方法 | 2016.12.07 | 本发明公开了一种用于复合波片的定标方法，其包括：A.确定表征复合波片的第一矩阵，第一矩阵包含至少一个 |
| 2 | CN106252791A | 硅片吸盘 | 2016.12.21 | 本发明涉及一种硅片吸盘，其包括：至少一个安装通孔，该安装通孔由该硅片吸盘的第一表面延伸至与该第一表面 |
| 3 | CN104516082B | 一种镜头组安装组件以及具有该组件的光学测量系统 | 2017.03.29 | 一种镜头组安装组件，其包括：基座；定位光路镜头组，其安装到基座上，用于定位位于基座的底部下方的待测元 |
| 4 | CN104181671B | 基于象散法进行对焦的方法和相应的对焦系统 | 2017.02.22 | 现有的象散法对焦中，出射光的光强可能在很大范围内变化，可能会使得对焦曲线的漂移过大而超出系统对焦容差 |
| 5 | CN106445624A | 一种无硅片的测量流程编译方法 | 2017.02.22 | 本发明公开了一种无硅片的测量流程编译方法，其包括：输入晶圆数据文件；从所述晶圆数据文件之中提取至少一 |
| 6 | CN106346321A | 研磨机 | 2017.01.25 | 本发明提供一种研磨机，包括：底座，其具有倾斜表面并设有支架；磨盘，其可旋转地支撑在底座的倾斜表面上并 |
| 7 | CN106346335A | 研磨丝调整机构以及研磨丝调整方法 | 2017.01.25 | 本发明提供一种研磨丝调整机构，包括研磨丝调整装置和投影仪，研磨丝调整装置安装在所述投影仪上，其中，研 |
| 8 | CN106356310A | 一种对晶圆中的低对比度定标区域实施定标的方法 | 2017.01.25 | 本发明公开了一种对晶圆中的低对比度定标区域实施定标的方法，其中，包括如下步骤：C.确认是否有与所述晶 |
| 9 | CN106340482A | 基于晶圆边角和缺口定位的自动校正定标方法 | 2017.01.18 | 本发明公开了一种基于晶圆边角和缺口定位的自动校正定标方法，其包括移动至定位位置并寻找所述定位位置；如 |
| 10 | CN104848162B | 一种用于高热量光源的风冷装置 | 2017.01.11 | 本发明提供一种用于高热量光源的风冷装置，包括：风冷腔体组件、灯罩组件以及导风分流组件。风冷腔体组件包 |
| 11 | CN106289095A | 基于前值的关键尺寸测量方法和设备 | 2017.01.04 | 本发明公开了一种基于前值的关键尺寸测量方法和设备。该基于前值的测量方法，包括：A.获取样品在前次工艺 |
| 12 | CN103869830B | 一种使用实时系统控制椭偏仪的控制方法及实时系统 | 2016.11.23 | 现有用于控制椭偏仪测量的方法均是使用非实时系统实现，无法实时的控制椭偏仪各部件，会引起椭偏仪数据采集 |
| 13 | CN103390094B | 用于计算光源入射到介质的散射电磁场分布的方法 | 2016.09.14 | 本发明涉及一种用于计算光源入射到介质的散射电磁场分布的方法，其中，所述光源的入射角是Littrow‑ |
| 14 | CN103456590B | 扫描电镜中具有多级机械对准机构的对准装置及其方法 | 2016.08.24 | 本发明的目的是提供一种对准装置、包含所述对准装置的扫描电镜以及在所述扫描电镜中用于对多级透镜进行对准 |
| 15 | CN103364077B | 用于光学测量仪器的温度控制方法和设备及光学测量仪器 | 2016.06.29 | 现有的用于光学测量仪器的温度控制设备仅对光源模块进行冷却，无法维持光学测量仪器内其他模块和光路空间的 |
| 16 | CN104338852B | 一种模具 | 2016.05.25 | 一种模具，其包括：凹模，其具有基本水平的基部以及柱状本体，本体还限定有容纳孔；垫块，其开设有上下贯通 |
| 17 | CN105571483A | 一种用于优化光学系统参数的方法和装置 | 2016.05.11 | 本发明提供一种优化光学系统参数的方案，该方案中，对于多个测量模式中每一个测量模式，确定与该测量模式对 |
| 18 | CN105571484A | 确定测量模式和光学系统参数容差的方法和装置 | 2016.05.11 | 本发明提供了一种用于确定OCD测量中的光学系统参数容差的方案，其中，对于多个测量模式中的每一个测量模 |
| 19 | CN103456589B | 利用多极透镜调整粒子束流的光阑及包含该光阑的设备 | 2016.04.06 | 本发明的目的是提供一种利用多极透镜调整粒子束流的光阑及包含该光阑的设备。根据本发明的光阑，包括光阑板 |
| 20 | CN105444643A | 物体旋转中心的定标方法与装置 | 2016.03.30 | 本发明公开了一种用于确定物体旋转中心的方法，包括以下步骤：A：提供具有多个可识别图案的待测物体，其中 |
| 21 | CN105444666A | 用于光学关键尺寸测量的方法及装置 | 2016.03.30 | 本发明描述了一种在光学关键尺寸(OCD)测量设备中的提升光谱曲线匹配可靠性和测量精确度的方法及装置。 |
| 22 | CN103185548B | 测量半导体机台的平台性能参数的辅助装置及方法 | 2016.03.09 | 现有的测量半导体机台的平台性能参数的技术中，需要事先尝试确定平台运动到给定位置后的停留时间和测量设备 |
| 23 | CN105332992A | 真空吸盘 | 2016.02.17 | 一种真空吸盘，包括吸盘本体和气体通道，气体通道包括位于吸附表面上的至少两组同心圆槽和位于吸盘本体内部 |
| 24 | CN103258759B | 一种定向半导体设备精密定位运动平台的装置及方法 | 2015.12.16 | 现有的半导体设备精密定位运动平台的定向技术仅参照运动体中心的定位进行定向，不能满足较高的水平度要求。 |
| 25 | CN105092095A | 温度标定方法及装置 | 2015.11.25 | 本发明提供了一种用于温度标定的方法和装置，包括：标定电阻，其具有与温度相关的阻值；测量模块，耦接至标 |
| 26 | CN105091759A | 物体表面高度快速定位的方法与装置 | 2015.11.25 | 本发明公开了一种用于物体表面高度快速定位的方法与装置，该方法包括：A.基于表征待测物体表面特征的第一 |
| 27 | CN105094051A | 运动平台系统的平面定位补偿方法 | 2015.11.25 | 本发明提供一种运动平台系统的平面定位补偿方法，所述运动平台系统包括运动平台以及对运动平台上的物体进行 |
| 28 | CN105092036A | 在旋转器件型光谱椭偏仪中的同步触发定标方法及装置 | 2015.11.25 | 本发明公开了一种在旋转器件型光谱椭偏仪中的同步触发定标方法，其中，包括步骤：I.设定上层软件预设信息 |
| 29 | CN105092479A | 一种用于优化测量系统的灵敏度的方法 | 2015.11.25 | 本发明涉及一种用于优化测量系统的灵敏度的方法，所述方法包括以下步骤：对待测量的样品进行敏感性分析以便 |
| 30 | CN104976297A | 全自动标准椭偏仪的机械传动装置 | 2015.10.14 | 本发明提供一种全自动标准椭偏仪的机械传动装置，其包括基座、导轨运动副、入射端和接收端直线运动副、入射 |
| 31 | CN104979257A | 用于无图案硅片测量的定位方法 | 2015.10.14 | 本发明公开了一种用于无图案硅片测量的定位方法，包括A.确定硅片的至少三个参考点，并获取相应的参考点的 |
| 32 | CN104976963A | 快速测量物体表面面形的方法及其应用 | 2015.10.14 | 提供了用光学信号对物体表面进行面形重构的快速测量物体表面面形的方法及其在半导体工艺中测量硅片表面残余 |
| 33 | CN104977721A | 一种应用在半导体测试设备上的图像识别设备 | 2015.10.14 | 本发明公开一种应用在半导体测试设备上的图像识别设备，其包括管镜、照明组件和探测器，其特征在于，还包括 |
| 34 | CN104979258A | 一种晶圆对准系统和晶圆对准方法 | 2015.10.14 | 公开了一种晶圆对准系统和方法。该系统包括：可绕X、Y、Z三轴平动并绕Z轴转动的运动平台；被支撑在运动 |
| 35 | CN104952759A | 晶圆清洁箱内微环境控制装置及控制方法 | 2015.09.30 | 本发明提供一种晶圆清洁箱内微环境控制装置，其适用于控制所述微环境以防止清洁后的晶圆被再次污染，包括： |
| 36 | CN104950421A | 一种自动聚焦系统 | 2015.09.30 | 一种自动聚焦系统，其包括光源、准直镜头、分光镜、物镜镜头、接收镜头、柱面镜和光感测器。光源、准直镜头 |
| 37 | CN104941957A | 晶圆清洁装置及方法 | 2015.09.30 | 本发明提供一种晶圆清洁装置，包括具有箱体、箱门、密闭清洁腔体以及容置于密闭清洁腔体内支撑晶圆的支撑销 |
| 38 | CN104864815A | 校准椭偏测量中应力元件带来的误差影响的方法 | 2015.08.26 | 本发明提供一种校准椭偏测量中应力元件带来的误差影响的方法，该方法包括如下步骤：i)找出应力元件的本征 |
| 39 | CN104864958A | 具有同步数据采集机制的光学测量系统 | 2015.08.26 | 本发明提供了一种光学测量系统，包括：探测单元，用于采集反射自样品表面的光谱数据；运动单元，用于调整入 |
| 40 | CN104848162A | 一种用于高热量光源的风冷装置 | 2015.08.19 | 本发明提供一种用于高热量光源的风冷装置，包括：风冷腔体组件、灯罩组件以及导风分流组件。风冷腔体组件包 |
| 41 | CN104807398A | 一种在OCD测量中用于筛选波段的方法和装置 | 2015.07.29 | 本发明提供了一种在OCD测量中用于筛选波段的方法，其中，该方法包括以下步骤：a）对于待测结构模型的多 |
| 42 | CN104778181A | 一种进行测量光谱与库光谱匹配的方法及其设备 | 2015.07.15 | 本发明公开了一种在光学关键尺寸测量设备中进行测量光谱与库光谱匹配的方法，其中：A.根据已知的样品信息 |
| 43 | CN103294085B | 一种用于光学测量设备的微环境控制系统 | 2015.07.08 | 本发明涉及一种用于光学测量设备的微环境控制系统，包括环境压力控制模块，其中所述环境压力控制模块包括： |
| 44 | CN104750748A | 一种用于提高理论光谱数据库创建速度的方法及装置 | 2015.07.01 | 本发明公开了一种用于提高理论光谱数据库创建速度的方法及装置，其中，方法包括：获取光学关键尺寸模型在每 |
| 45 | CN104713487A | 可调节光源装置及包括该装置的精密测量设备 | 2015.06.17 | 本发明提供一种可调节光源装置及包括该装置的精密测量设备，包括：冷却基体、多维调整架、光源和可移动绝缘 |
| 46 | CN104713917A | 一种用于获取样品介质的空间谱的方法和装置 | 2015.06.17 | 本发明的目的是提供一种用于获取样品介质的空间谱的方法和装置。根据本发明的方法包括：将一个周期结构内的 |
| 47 | CN104679774A | 一种用于获取样品参数信息的匹配方法和装置 | 2015.06.03 | 本发明的目的是提供用于获取样品参数信息的匹配方法和装置。本发明的方法包括：获取完整细化光谱数据库及精 |
| 48 | CN104679770A | 一种生成样品的光谱数据库及获取参数信息的方法和装置 | 2015.06.03 | 本发明的目的是提供一种生成样品的光谱数据库及获取样品参数信息的方法和装置。本发明的方法包括：将所述样 |
| 49 | CN104655028A | 用于半导体基片测量的聚焦系统与聚焦方法 | 2015.05.27 | 本发明涉及一种用于半导体基片测量的聚焦系统与聚焦方法，包括：光路单元，用于发射指定的光束至待测物表面 |
| 50 | CN104637781A | 一种在处理机台上生成用于定位晶圆的制程的方法 | 2015.05.20 | 本发明提供了一种在处理机台上生成用于定位晶圆的制程的方法，包括如下步骤：I.导入待测晶圆；II.设定 |
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